Foveo Tech S5 z tynkiem silikonowym TN30
Foveo Tech S1 z tynkiem mineralnym TM10
Foveo Tech W3 z tynkiem silikonowym TN30
Foveo Tech W1 z tynkiem mineralnym TM10
ACRYL-PUTZ® RG 21 REGULAR to gotowa do użycia, dolomitowa, biała gładź tynkowa przeznaczona do przygotowywania idealnie gładkich ścian i sufitów wewnątrz budynków przed malowaniem lub tapetowaniem, a także do montażu narożników aluminiowych i spoinowania płyt gipsowo-kartonowych.
Żaluzje fasadowe SunFas to nowoczesne i eleganckie osłony okienne lub drzwiowe, mocowane na zewnątrz budynków. Stanowią doskonałą barierę przed nadmiernym nasłonecznieniem.
Termostaty montowane naściennie, dostępne są w wersji z czujnikiem powietrznym wbudowanym lub / i czujnikiem podłogowym bądź z czujnikiem powietrznym w osobnej puszce.
Termostaty natynkowe montowane są bezpośrednio na ścianie bez użycia puszki montażowej. Dostępne z czujnikiem podłogowym i powietrznym.
Przeznaczone do stosowania w budynkach w trakcie budowy lub istniejących
SCREEN HIDE to nowoczesny system osłon przeciwsłonecznych typu zip screen, który chroni przed promieniowaniem słonecznym i zapewnia odpowiedni poziom zacienienia.
Płyta PAROC Linio 10 jest niepalną izolacją na bazie wełny kamiennej, zastosowaną jako warstwa ociepleniowa ścian z cienko warstwowymi tynkami fasadowymi w istniejących bądź nowych budynkach
Lamelowa płyta PAROC Linio 80 jest niepalną izolacją z wełny kamiennej, stosowaną w cienkowarstwowych fasadach otynkowanych w istniejących bądź nowych budynkach.
Beton mostowo-drogowy - zastosowanie kruszyw granitowych, bazaltowych 2:8, 8:16 oraz cementów portlandzkich cem I 42,5 N-HSR/NA, odpowiednio dobranych składników chemicznych pozwala na uzyskanie betonu wysokiej klasy zgodnego z wymaganiami norm PN-88/ B-06250, PN-EN 206-1:2003
Rejestrator MPI-8/4 Rejestratory elektroniczne MPI-8 i MPI-8/4 przeznaczone są do współpracy z czujnikami RTD, TC oraz sygnałami mA. Rejestratory MPI-8 i MPI-8/4 mogą być stosowane w układach procesowych i liniach technologicznych jako uniwersalne rejestratory parametrów procesu, m...